反滲透凈水設(shè)備是將原水經(jīng)過(guò)精細(xì)過(guò)濾器、顆?；钚蕴歼^(guò)濾器、壓縮活性碳過(guò)濾器等，再通過(guò)泵加壓，利用孔徑為1/10000μm（相當(dāng)于大腸大小的1/6000，的1/300）的反滲透膜（RO膜），使較高濃度的水變?yōu)榈蜐舛人?，同時(shí)將工業(yè)污染物、重金屬、、等大量混入水中的雜質(zhì)全部隔離，從而達(dá)到飲用規(guī)定的理化指標(biāo)及衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)，產(chǎn)出至清至純的水，是人體及時(shí)補(bǔ)充水份的選擇.由于RO反滲透技術(shù)生產(chǎn)的水純凈度是目前人類掌握的一切制水技術(shù)中高的，所以人們稱這種產(chǎn)水機(jī)器為反滲透純凈水機(jī)。
反滲透是一種現(xiàn)代新型的純凈水處理技術(shù)。通過(guò)反滲透元件來(lái)提高水質(zhì)的純凈度，清除水中含有的雜質(zhì)和鹽。我們?nèi)粘Ｋ玫募儍羲际墙?jīng)過(guò)反滲透設(shè)備處理的，水質(zhì)清澈。
工藝流程
1、原水(深井水)——原水箱——原水增壓泵——多介質(zhì)過(guò)濾器——活性炭過(guò)濾器——樹(shù)脂軟化系統(tǒng)(或加藥系統(tǒng)、PH值調(diào)節(jié)系統(tǒng))——5微米精密過(guò)濾器——反滲透主機(jī)系統(tǒng)——臭氧殺菌系統(tǒng)——純凈水箱——灌裝線(或用水點(diǎn))
2、 市政自來(lái)水——多介質(zhì)過(guò)濾器——活性炭過(guò)濾器——樹(shù)脂軟化系統(tǒng)(或加藥系統(tǒng)、PH值調(diào)節(jié)系統(tǒng))——5微米精密過(guò)濾器——反滲透主機(jī)系統(tǒng)——臭氧殺菌系統(tǒng)——純凈水箱——灌裝線(或用水點(diǎn))

我們想要購(gòu)買一樣商品時(shí)首要考慮的是我們的所需，也就是所商品的主要用途。我們今天就了解一下實(shí)驗(yàn)室所用的超純水機(jī)的主要用途。實(shí)驗(yàn)室超純水機(jī)可以將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機(jī)物均去除至很低程度的設(shè)備。因此，實(shí)驗(yàn)室超純水機(jī)可以說(shuō)是每個(gè)實(shí)驗(yàn)室都不可缺的一個(gè)重要設(shè)備。
實(shí)驗(yàn)室超純水機(jī)產(chǎn)出的超純水主要用途說(shuō)明：
1、、制劑室及中心實(shí)驗(yàn)室用純化水和高純水
2、各種用生化儀、分析儀、血液透析儀用水
3、各種液相色譜、離子色譜用水
4、其他各種實(shí)驗(yàn)室用水和用水。
5、分析試劑及配置稀釋用水
6、生理、病理、毒理學(xué)實(shí)驗(yàn)用水
7、動(dòng)、植物細(xì)培養(yǎng)用水
8、原子吸收光譜用水
9、用水

水質(zhì)：出水水質(zhì)>15MΩ.cm
用途:半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對(duì)水質(zhì)的要求也越高。目前我國(guó)電子工業(yè)部把電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。  超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,硅片超純水設(shè)備
    半導(dǎo)體（semiconductor），指常溫下導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體與絕緣體之間的材料。半導(dǎo)體材料很多，按化學(xué)成分可分為元素半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體兩大類。鍺和硅是常用的元素半導(dǎo)體；化合物半導(dǎo)體包括Ⅲ-Ⅴ族化合物：化鎵、磷化鎵等；Ⅱ-Ⅵ族化合物：硫化鎘、硫化鋅等；氧化物：錳、鉻、鐵、銅的氧化物，以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物組成的固溶體：鎵鋁、鎵磷等。除上述晶態(tài)半導(dǎo)體外，還有非晶態(tài)的玻璃半導(dǎo)體、有機(jī)半導(dǎo)體等。
光電材料生產(chǎn)、加工、清洗；液晶顯示屏、離子顯示屏、燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對(duì)水質(zhì)的要求也越高，這也對(duì)超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡(jiǎn)易性、自動(dòng)化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求。
半導(dǎo)體超純水設(shè)備，超純水設(shè)備，超純水處理設(shè)備，我們公司生產(chǎn)反滲透＋EDI超純水設(shè)備，有多年的生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)，做過(guò)各行業(yè)的水處理設(shè)備，水處理方面我們有豐富的經(jīng)驗(yàn)。
半導(dǎo)體超純水設(shè)備制備工藝：
1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)（≥18MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝) 
  　 2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)（≥18MΩ.CM）(工藝) 
　　3、預(yù)處理→一級(jí)反滲透→加藥機(jī)（PH調(diào)節(jié)）→中間水箱→第二級(jí)反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)（≥17MΩ.CM）(工藝) 
　　4、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)（≥15MΩ.CM）(工藝) 
　　5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過(guò)濾器→用水點(diǎn) （≥15MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)
水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)：
半導(dǎo)體超純水設(shè)備，超純水設(shè)備，超純水處理設(shè)備出水水質(zhì)符合美國(guó)ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國(guó)電子工業(yè)電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm）我國(guó)電子工業(yè)超純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。
半導(dǎo)體超純水設(shè)備，超純水設(shè)備，超純水處理設(shè)備的應(yīng)用領(lǐng)域：
電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗；　 超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,硅片超純水設(shè)備
電子管生產(chǎn)、顯像管和陰極射線管生產(chǎn)配料用純水；
黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤(rùn)、洗膜、管頸清洗用純水；
生產(chǎn)液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液；
晶體管生產(chǎn)中純水主要用于清洗硅片；
集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片；
半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水；
半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗；
顯像管、螢光粉生產(chǎn)；
汽車、家電表面拋光處理。

產(chǎn)品介紹
反滲透純水設(shè)備用于新興的光電材料生產(chǎn)、加工、清洗;LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。
集成電路的集成度越高，對(duì)水質(zhì)的要求也越高，這也對(duì)超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡(jiǎn)易性、自動(dòng)化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求。都應(yīng)該使用多種純化技術(shù)相結(jié)合制取的純水，這樣才能提高純水的純度，符合用水需求。
而制藥行業(yè)純水設(shè)備采用雙級(jí)反滲透技術(shù)與純化、殺菌技術(shù)相結(jié)合，出水水質(zhì)達(dá)到美國(guó)ASTM、NCCLS、CAP試劑級(jí)純水標(biāo)準(zhǔn)。
工藝設(shè)計(jì)
1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過(guò)濾器→用水對(duì)象 (≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)。
2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水對(duì)象(≥18MΩ.CM)(工藝)。
3、預(yù)處理→一級(jí)反滲透→加藥機(jī)(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級(jí)反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水對(duì)象(≥17MΩ.CM)(工藝)。
4、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水對(duì)象(≥15MΩ.CM)(工藝)。
5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過(guò)濾器→用水對(duì)象 (≥15MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)。
設(shè)備特點(diǎn)
1.采用進(jìn)口反滲透膜，脫鹽率高，使用壽命長(zhǎng)，運(yùn)行成本低廉。
2.無(wú)需酸堿處理，環(huán)保無(wú)“三廢”。
3.自動(dòng)控制，自動(dòng)維護(hù)，水質(zhì)在線檢測(cè)，隨時(shí)監(jiān)測(cè)水質(zhì)變化。
4.切合當(dāng)?shù)厮|(zhì)的個(gè)性化設(shè)計(jì)，滿足需求。
5.全自動(dòng)控制系統(tǒng)，日常操作極為簡(jiǎn)便，系統(tǒng)自動(dòng)進(jìn)行沖洗維護(hù)，制取產(chǎn)品水過(guò)程不需要任何手工操作。
6.雙流路設(shè)計(jì)，不但可以制造超純水，還生產(chǎn)純水，方便用戶實(shí)驗(yàn)室的不同級(jí)別用水要求。
7.預(yù)留了升級(jí)空間?？梢愿鶕?jù)用戶需要輕松實(shí)現(xiàn)功能升級(jí)。
技術(shù)參數(shù)
電子級(jí)超純水設(shè)備出水水質(zhì)完全符合美國(guó)ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國(guó)電子工業(yè)部電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級(jí)標(biāo)準(zhǔn))、我國(guó)電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、國(guó)內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。
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